[发明专利]耐久的溅射金属氧化物镀层无效
| 申请号： | 94117931.1 | 申请日： | 1994-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN1112461C | 公开（公告）日： | 2003-06-25 |
| 发明（设计）人： | Ｊ·Ｊ·芬利;Ｍ·阿巴博 | 申请（专利权）人： | PPG工业俄亥俄公司 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 徐汝巽 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种方法和由该方法制得的产品，其中通过在包含惰性气体和一种活性气体但基本上是非活性的气氛中溅射金属阴极靶而沉积金属薄膜，其中活性气体的浓度足够低，使得溅射是在金属方式下完成的，即薄膜是以金属态沉积的。本发明的金属薄膜比在仅由惰性气体组成的气氛中溅射的金属薄膜硬度要高。本方法及由该方法制得的产品还可包括对该金属薄膜进行热氧化，它比在仅由惰性气体组成的气氛中溅射的金属薄膜的氧化更有效。 | ||
| 搜索关键词： | 耐久 溅射 金属 氧化物 镀层 | ||
【主权项】：
1.一种通过阴极溅射制备硬的金属薄膜的方法，包括下面的步骤：a.把基板置于一个包括金属阴极靶并含惰性气体和少量活性气体的混合气氛的真空室里，所述的惰性气体为氩气，活性气体是氧气和/或氮气，当活性气体为氧气时，其量为2-30％，和b.溅射金属阴极靶，同时根据阴极靶金属类型、尺寸和几何形状、阴极的数量控制溅射功率水平和气氛中活性气体的量，使其低于由金属溅射方式向氧化物溅射方式转变的转变点的量，使得金属是以金属方式溅射的，但所述活性气体的量又足以使金属薄膜以非晶态而不是晶态沉积。
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