[发明专利]制造电子装置时处理金属表面的方法无效

专利信息
申请号: 94118330.0 申请日: 1994-11-02
公开(公告)号: CN1043414C 公开(公告)日: 1999-05-19
发明(设计)人: 片山薰;和井伸一;岩田泰宏;福田洋;太田敏彦 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: B23K1/20 分类号: B23K1/20;B23K26/00;H05K3/34
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 徐汝巽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种在制造电子装置时处理金属表面的方法,它通过焊料将部件连接在电路基片上,其特征在于该方法包括用激光束照射焊料,所用激光束的脉宽不超过1μs、波长为150nm-400nm、能量密度为0.5J/cm2-4.0J/cm2,由此清洗焊料表面,然后加热并熔化焊料。根据本发明可以在不用复杂步骤并对电子部件或电子装置没有不利影响的情况下从金属表面将氧化膜简单除去,从而清洁金属表面。
搜索关键词: 制造 电子 装置 处理 金属表面 方法
【主权项】:
1.一种在制造电子装置时处理金属表面的方法,它通过焊料将部件连接在电路基片上,其特征在于该方法包括用激光束照射焊料,所述激光束的脉宽不超过1μs、波长为150nm-400nm、能量密度为0.5J/cm2-4.0J/cm2,由此清洗焊料表面,然后加热并熔化焊料,由此将部件连接在电路基片上。
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