[发明专利]流体处理系统和方法

摘要

一种流体处理系统，包括一个或多个排列在处理区内的辐照区中的辐射源，要处理的流体通过处理区并接受辐照。辐照区有一个闭合的横截面以将流体保持在距辐射源预定的最大距离之内。优选辐照区包括一个减小的垂直于流体流动方向的截面，从而可以提高流体流过辐照区时的速度。这样使得流体以较低的速度进入处理区而以较高的速度通过辐照区，再以较低的速度流出处理区，以尽量减少整个系统的压头损失。进入处理区的流体在进入辐照区之前先通过截面面积减少的进口过渡区，且出辐照区的流体通过一个截面面积增加的出口过渡区。每个过渡区都设计成当流体流速增加或减少时降低压头损失。在辐照区，辐射源被安装在辐射组件上，辐射组件的排列方式提高了维修的便利。辐射组件也可以拥有清洗组合件，当辐射源在辐照区中时清洗组合件能够原位清除污染辐射源的物质。$

主权项

1.重力进料流体处理系统，包括流体进口、流体出口、置于流体进口和流体出口之间的辐照区，以及至少一个辐射源和其支架，所述至少一个辐射源是伸长的且具有一个基本平行于流体通过所述辐照区的流动方向的纵轴，并且可以充分浸没在流过辐照区的流体中，其特征在于，所述支架设在所述辐照区的上游或下游，所述辐照区具有闭合的横截面以限制被处理的流体在距至少一个辐射源预定的最大距离之内，所述闭合的横截面面积小于所述流体进口的横截面面积。