[发明专利]在多层电路板的相邻电路板层之间提供电连接的方法无效
申请号: | 94192341.X | 申请日: | 1994-06-07 |
公开(公告)号: | CN1125998A | 公开(公告)日: | 1996-07-03 |
发明(设计)人: | 乔尔·A·格伯;彼得·A·吉斯 | 申请(专利权)人: | 美国3M公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H05K3/46 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 陈亮 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种多层电路板,包括多层板的相邻电路板层之间的电连接。设置一通孔通过电路板层。通孔用通孔金属填满。用低熔点的金属镀覆通孔金属。在电路板层上镀覆粘接膜。多层电路板的相邻层重叠在一起,并对齐。在加热和加压下进行叠合。低熔点金属提供相邻层之间的电连接。 | ||
搜索关键词: | 多层 电路板 相邻 之间 提供 连接 方法 | ||
【主权项】:
1.一种进行多层连接的方法,包含:在第一电路板层的第一面上镀覆导电金属;形成一个通孔,其在第一电路板层的第一面和第二面之间延伸,其中,通孔延伸至导电金属层;在通孔内镀覆通孔金属,所述通孔金属形成从所述第一电路板层的第二面上的所述通孔向外的隆起;在第二电路板层的第一面上镀覆电接触点;把第一电路板层与第二电路板层对齐,把粘接剂夹在第一和第二电路板层之间,第二电路板层的电接触点与第一电路板层的通孔对齐;把第一电路板层叠合到第二电路板上,第一电路板层的通孔金属与第二电路板层的电接触点电接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造