[发明专利]酰化的氨基苯基磺酰脲类，其制备方法及作为除草剂和植物生长调节剂的用途

摘要

本发明涉及结构式Ⅰ的化合物或其盐，$其中Ｇ是基团Ｇ１、Ｇ２或Ｇ３$Ｒ1是H或烷基,R2是COOH,CSOH或具有1～20个碳原子的羧基或硫代羧基的衍生基,或具有1～12个碳原子的CO-R0类型的酰基,或基团CO-R0的亚胺、腙或肟衍生物，以及Ｒ0,R3a,R4a,R3b,R4b,W,X,Y,和Z如权利要求1所定义。该化合物适合于在作物中用作选择性除草剂和植物生长调节剂。$按类似于已知的方法、由选自苯磺酰胺（Ⅱ），苯磺酰基异氰酸酯（Ⅳ）和苯磺酰氯（Ⅵ）和杂环取代的氨基甲酸酯（Ⅲ）、胺（Ⅴ）和／或（硫代）异氰酸酯（ＸＩＸ）的中间体（有些是新的）进行制备。

主权项

1.结构式(I)的化合物及其盐类：G是选自G1、G2和G3的取代的N-酰基—氨基苯基：R1是氢或C1-C3烷基，R2是CO-OR5，CS-SR6，CO-SR7，CS-OR8，CO-R9，CO-NR10R11，CO-O-N＝CR12R13，C(＝NR14)R15或CS-NR16R17，R3a是氢，C1-C5烷基，C2-C5链烯基或C2-C5炔基，在此后三种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素、C1-C4烷氧基、CN、二(C1-C4烷基)氨基、N3和C1-C3烷硫基的基团所取代，R3b是氢，C1-C5烷基，C3-C6环烷基，C2-C5链烯基或C2-C5炔基，在此后四种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素、C1-C4烷氧基、CN、二(C1-C4烷基)氨基、N3和C1-C3烷硫基的基团所取代，R4a是CO-(C1-C5烷基)或CO2-(C1-C5烷基)，在此该后两种基团是未取代的或被一个或多种选自OH、NR18R19、N3、CN、CO2H、S(O)x-(C1-C4烷基)和CO2-(C1-C3烷基)的基团所取代，或氨基羰基或氨基磺酰基，在此该后两种基团是未取代的或被选自C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基的相同或不同的基团N-取代，R4b是CHO，CO-(C1-C5烷基)，CO-(C3-C6环烷基)，CO2-(C1-C5烷基)，CO-(C2-C5链烯基)，CS-(C1-C5烷基)，CO-(C2-C5炔基)，CO-S-(C1-C6烷基)，CS-O-(C1-C6烷基)或CS-S-(C1-C6烷基)，在此该后九种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素、CN、N3、CO2H、CO2-(C1-C3烷基)、OH、NR20R21、S(O)x-(C1-C4烷基)、CO-NR22R23和C1-C3烷氧基的基团所取代，或CO-NR24R25，CS-NR26R27，SO2R28或SO2NR29R30，R5是C1-C5烷基，C2-C5链烯基，C2-C5炔基，C3-C6环烷基或C4-C7环烷基烷基，在此该后五种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素、CN、N3、C1-C3烷氧基、C1-C3烷硫基、氨基、单和二(C1-C4烷基)氨基，NO2、SCN、C1-C3卤代烷氧基和C1-C3卤代烷硫基的基团所取代，R6是与R5一样的基团，R7是与R5一样的基团，R8是与R5一样的基团，R9是H，C1-C6烷基，C2-C6链烯基，C2-C6炔基，C3-C7环烷基，在此该后四种基团相互独立地是未取代的或被一个或多个选自卤素、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4卤代烷硫基和CN的基团所取代，R10是H，C1-C6烷基，C2-C6链烯基，C2-C6炔基，在此该后三种基团是未取代的或被一个或多个选自C1-C3烷氧基、C1-C3烷硫基、卤素、CN、氨基、C1-C4烷氨基和二(C1-C4烷基)氨基的基团所取代或C1-C4烷氧基或OH，R11是氢，C1-C6烷基，C2-C6链烯基，C2-C6炔基，在此后三种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，CN，NH2，单或二(C1-C4烷基)氨基，C1-C3烷氧基和C1-C3烷硫基的基团所取代，或NR10R11一起是杂环，除了环上氮原子以外它还含有至多两个选自N、O和S的杂环原子，而且可进一步被取代，R12和R13独立地是H，C1-C4烷基，C2-C4链烯基或C2-C4炔基，或R12和R13一起是具有3或4个碳原子的亚烷基链，它还可被C1-C4烷基或C1-C4烷氧基取代，R14是H，OH，NH2，NHR31，NR231，C1-C4烷基，C1-C4烷氧基，C2-C4链烯基或C2-C4炔基，在此该后四种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，C1-C3烷氧基或C1-C3烷硫基的基团所取代，R15是H，C1-C6烷基，C1-C6烷氧基，C2-C6链烯基，C2-C6炔基，在此该后四种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，C1-C3烷氧基和C1-C3烷硫基的基团所取代，R16是与R10一样的基团，R17是与R11一样的基团，R18不依赖于R19是H，C1-C4烷基，C2-C5链烯基或C2-C5炔基，在此该后三种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，C1-C3烷氧基，C1-C3烷硫基和CN的基团所取代，R19不依赖于R18是与R18一样的基团或者是C1-C3烷氧基或OH，或NR18R19一起是杂环，除了环上氮原子以外它还含有至多两个选自N、O和S的杂环原子，而且可进一步被取代，R20不依赖于R21是H，C1-C4烷基，C2-C4链烯基或C2-C4炔基，在此该后三种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，CN、NH2，单和二(C1-C4)烷基氨基，C1-C3烷氧基，C1-C3烷硫基和CO2-(C1-C3烷基)的基团所取代，R21不依赖于R20是与R20一样的基团或者是CHO，CO-(C1-C5烷基)或CO2-(C1-C5烷基)或者NR20R21是类似于NR18R19的杂环，R22和R23相互独立地是H，C1-C3烷基，C2-C4链烯基或C2-C4炔基或者NR22R23是类似于NR18R19的杂环，R24不依赖于R25是H，C1-C4烷基，C2-C5链烯基或C2-C5炔基，在此该后三种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，C1-C3烷氧基，C1-C3烷硫基和CN的基团所取代，R25不依赖于R24是H，C1-C4烷基，C2-C5链烯基或C2-C5炔基，在此该后三种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，C1-C3烷氧基，C1-C3烷硫基和CN的基团所取代，或者是C1-C3烷氧基或OH，或者NR24R25是类似于NR18R19的杂环，R26不依赖于R27是与R24一样的基团，R27不依赖于R26是与R26一样的基团或者是C1-C3烷氧基或OH，或者NR26R27是类似于NR18R19的杂环，R28是C1-C5烷基，C2-C5链烯基或C2-C5炔基，在此该后三种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，CN，C1-C3烷氧基和C1-C3烷基巯基的基团所取代，R29不依赖于R30是与R24一样的基团，R30不依赖于R29是与R25一样的基团，或者NR29R30是类似于NR18R19的杂环，R31是C1-C4烷基，C2-C4链烯基或C2-C4炔基，在此该后三种基团相互独立地是未取代的或被一个或多个选自卤素，C1-C4烷氧基和C1-C4烷硫基的基团所取代，X不依赖于其它标志X，是0，1或2，W是O或S，X和Y相互独立地是氢，卤素，C1-C2烷基，C1-C2烷氧基或C1-C2烷硫基，在此该后三种基团是未取代的或被一个或多个选自卤素，C1-C2烷氧基和C1-C2烷硫基的基团所取代，或者是单或二(C1-C2烷基)氨基，C3-C4链烯基，C3-C4链烯基氧基或C3-C4炔基氧基，以及Z是CH或N。