[发明专利]活性抛光组合物及其制备方法无效
| 申请号： | 94193257.5 | 申请日： | 1994-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN1042550C | 公开（公告）日： | 1999-03-17 |
| 发明（设计）人： | Ｌ·Ｍ·库克;Ｓ·Ｂ·朗克;Ｇ·布兰卡伦尼 | 申请（专利权）人： | 罗德尔公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 徐汝巽 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种制备活性组合物的方法及由其制成的适合用于抛光表面尤其是集成电路表面的组合物，其中基质磨料通过添加第二种阳离子而得以活化，其中阳离子的氧化物比基质磨料单独作用时有更高的抛光速率。活化是通过在一种含水介质中的周期性碰撞使活性阳离子吸附在基质磨料上而完成的，其中介质的ｐＨ值处于有利于活性阳离子吸附在基质磨料表面上的数值。 | ||
| 搜索关键词： | 活性 抛光 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1．一种制备适合用于抛光物品的组合物的方法，其中通过在SiO2的表面化学吸附一种单独使用时其氧化物比SiO2具有更高的抛光速率的阳离子，使SiO2得以活化，所述方法包括：将上述SiO2和含上述阳离子的化合物在一种含水介质中通过共磨而进行相互碰撞，介质的pH值处于有利于上述阳离子吸附到SiO2表面的数值。
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