[发明专利]磁光合金溅射靶无效

专利信息
申请号: 94194332.1 申请日: 1994-11-22
公开(公告)号: CN1072733C 公开(公告)日: 2001-10-10
发明(设计)人: 丹尼尔·R·马克斯 申请(专利权)人: 材料研究公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/14;B22F1/00;C22C1/04;G11B5/85;G11B7/24
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 刘国平
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于生产磁光记录介质的合金靶,其组成中包含至少一种稀土元素和至少一种过渡金属,靶的组织具有一种过渡金属成分和一种混合良好的稀土相及一种稀土/过渡金属间的金属互化物的合金成分,本发明的靶其组织中包含最少的金属互化物。一种用于生产磁光记录介质的合金靶的生产方法,该方法包括使过渡金属成分的颗粒(优选仅为合金化的过渡金属)与混合良好的合金颗粒混合以生产粉末掺混物,所说的掺混物基本上不包含未合金化的过渡金属的颗粒,将粉末掺混物在抑氧环境下,在一定温度和压力下,进行压制操作一定的时间,使所产生的靶具有最少的稀土/过渡间金属互化物。$#!
搜索关键词: 合金 溅射
【主权项】:
1.一种用于生产磁光记录介质的合金靶,其组成中包含至少一种稀土元素和至少一种过渡金属,靶的组织具有一种过渡金属成分和一种混合良好的稀土相及一种稀土/过渡金属间金属互化物的合金成分,所说的靶包含最高15%(重量)的所说的金属互化物,所说的过渡金属成分为过渡金属合金以限制在靶的生产过程中金属互化物的形成。
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