[实用新型]真空镀膜中水动旋转磁场式溅射靶及多弧源无效
| 申请号： | 94214661.1 | 申请日： | 1994-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN2206298Y | 公开（公告）日： | 1995-08-30 |
| 发明（设计）人： | 于书吉;王永光;粟达人;张厚先 | 申请（专利权）人： | 北京科智达技术发展公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100080 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 真空镀膜中水动旋转磁场式溅射靶及多弧源属真空镀膜技术领域，是一种具有旋转磁场的新型溅射靶或多弧源。它利用冷却水作动力，成功地将角向极化式磁场和复合不等场强磁场应用在溅射靶和多弧源上，形成水动式旋转磁场的溅射靶和多弧源，大大提高了镀材的离化品质，有很好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 中水 旋转 磁场 溅射 多弧源 | ||
【主权项】：
1、一种真空镀膜中水动旋转磁场式溅射靶及多弧源，其特征在于：a、它的水动旋转磁场是由冷却水冲动磁钢架[3]上的叶片组[4]来带动磁钢组[5]经转动轴承[2]形成磁钢组[5]与镀材[6]旋转的，b、它的复合磁场的磁钢组[5]在溅射靶中可由多块磁钢排列成轴向首尾相接，径向呈多组角向极化式；在多弧源中可由多块磁钢排列成径向复合不等场强磁场。
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