[实用新型]四槽循环流动晶体生长装置无效
| 申请号： | 94240897.7 | 申请日： | 1994-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN2199218Y | 公开（公告）日： | 1995-05-31 |
| 发明（设计）人： | 鲁智宽;高樟寿;李义平 | 申请（专利权）人： | 山东大学 |
| 主分类号： | C30B7/08 | 分类号： | C30B7/08 |
| 代理公司： | 山东大学专利事务所 | 代理人： | 刘旭东 |
| 地址： | 250100 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 四槽循环流动晶体生长装置。本实用新型属于晶体生长技术领域。本实用新型的主要技术特征在原来由生长槽、溶解槽、过热槽组成的三槽循环流动晶体生长装置的基础上又增加了过热平衡槽构成四槽循环流动晶体生长装置，它解决了目前三槽循环装置存在的溶液过热不充分，杂质进入生长槽，影响晶体生长的问题。本实用新型由于采用四槽循环，在晶体生长过程中可更换部件，滤去溶液中不溶杂质，消除溶液中的微生物，而不影响晶体生长，用较小体积生长容器生长出大晶体。 | ||
| 搜索关键词： | 循环 流动 晶体生长 装置 | ||
【主权项】：
1、一种由生长槽1、溶解槽2、过热槽3组成的四槽循环流动晶体生长装置，其特征是该四槽循环流动晶体生长装置有一个过热平衡槽4与过热槽3相连，过热平衡槽4的外壁套有一个恒温水夹套5，过热平衡槽4接管道6a经阀门6与生长槽1相连，在过热槽3密封盖3a上装有连续过滤装置7和紫外照射装置8。
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