[实用新型]单室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜机无效
申请号: | 94244721.2 | 申请日: | 1994-11-17 |
公开(公告)号: | CN2202752Y | 公开(公告)日: | 1995-07-05 |
发明(设计)人: | 刘殿凯;解云飞 | 申请(专利权)人: | 刘殿凯;解云飞 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100050*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种单室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜机,它包括真空室,固柱状磁控溅射靶,轰击棒,玻璃传动机械,气体分布管路,电源,冷却水系统,其中轰击棒装在真空室后部,圆柱状阴极溅射靶安装于真空室中央,气体分布管环绕在溅射靶周围,靶的外套管上端与真空室顶端连接,靶的电流接头和冷却水系统接头装在真空室外。 | ||
搜索关键词: | 固定 磁控溅射 幕墙 玻璃 镀膜 | ||
【主权项】:
1、一种单室固定靶磁控溅射幕墙玻璃镀膜机,其特征是它包括真空室,圆柱状磁控溅射靶,轰击棒,玻璃传动机械,气体分布管路,电源,冷却水系统,其中轰击棒装在真空室后部,圆柱状阴极溅射靶按装于真空室中央,气体分布管环绕在溅射靶周围,靶的外套管上端与真空室顶端连接,靶的电流接头和冷却水系统接头装在真空室外。
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