[发明专利]保护膜用材料和具有用该材料形成的保护膜的磁头无效
| 申请号： | 95103271.2 | 申请日： | 1995-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN1065645C | 公开（公告）日： | 2001-05-09 |
| 发明（设计）人： | 田村太久夫;中野朝雄;末永和史;尾形洁;笹嶋崇三;熊坂登行 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G11B5/255 | 分类号： | G11B5/255;C01B33/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种保护膜，设置在磁头的滑动面上时，其热膨胀系数、硬度与磁头基板的热膨胀系数、硬度接近，而且是用防水性好、成膜速度快的材料制成。所述保护膜，至少其一部分中包括成分CaMgSi＃-[2]O＃-[6]区域。此区域的原子配置是Ca以八配位与０结合，Mg以六配位与０结合，Si以四配位与０结合。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 用材 有用 材料 形成 磁头 | ||
【主权项】：
1．一种用于磁头的保护膜的非晶质材料，其特征在于，至少其一部分中包括成分CaMgSi2O6的区域，上述区域的原子配置是Ca以八配位与O结合，Mg以六配位与氧结合，Si以四配位与O结合。
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