[发明专利]涂敷的硬质合金刀具件无效
申请号: | 95103640.8 | 申请日: | 1995-04-06 |
公开(公告)号: | CN1070540C | 公开(公告)日: | 2001-09-05 |
发明(设计)人: | 吉村宽范;长田晃;宇纳健一;大鹿高岁;菅原淳;滨口雄树 | 申请(专利权)人: | 三菱麻铁里亚尔株式会社 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;B23B27/14;B23P15/28 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张元忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种涂敷的硬质合金刀具件,包括由WC-基硬质合金或TiCN基金属陶瓷硬质合金形成的基体,以及基体上的坚硬涂层。此坚硬涂层包括具有单侧生长的细长形晶体TiCN内层和具有κ或κ+α(κ〉α)晶形的Al#-[2]O#-[3]外层,所生产出的刀具件耐磨性和抗断裂性极高,而且具有更高水平的切削能力。 | ||
搜索关键词: | 硬质 合金刀具 | ||
【主权项】:
1.一种涂敷硬质合金的刀具元件,包括基体上形成的硬质合金选自WC-基硬质合金和TiCN-基金属陶瓷,硬质涂层沉积在所述基体上,所述硬质涂层包括两步沉积方法单侧生长伸长形状晶体的TiCN内层,其中使用包括0.01-0.1vol%乙腈气体浓度的CVD气体进行TiCN沉积形成TiCN的第一涂层和使用包括乙腈气体浓度增加到0.1-1.0vol%的CVD气体进行TiCN沉积形成TiCN的第二涂层以及晶体构型为κ或κ+α且κ>α的Al2O3外层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱麻铁里亚尔株式会社,未经三菱麻铁里亚尔株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/95103640.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的