[发明专利]掩模原版和利用掩模原版测量掩模原版旋转误差的方法无效
申请号: | 95104595.4 | 申请日: | 1995-04-01 |
公开(公告)号: | CN1115416A | 公开(公告)日: | 1996-01-24 |
发明(设计)人: | 黄俊 | 申请(专利权)人: | 现代电子产业株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人: | 马涛 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种设有母游标和子游标用来测量掩模原版旋转误差的掩模原版,该母游标设于掩模原版的某部位,该部位对应于使用该掩模原版的曝光设备所装透镜的中心部分。至少一对子游标分别沿着通过母游标的水平线由母游标隔开并均匀排布在掩模原版区域。该掩模原版能有效地减小由透镜的变形所造成的不良影响并精确地测量旋转误差。 | ||
搜索关键词: | 原版 利用 测量 旋转 误差 方法 | ||
【主权项】:
1、一种掩模原版,具有用来测量掩模原版旋转误差的母游标和子游标,其特征在于:母游标设在掩模原版对应于使用该掩模原版的曝光设备所装透镜的中心的部位;和至少一对子游标分别设于掩模原版的范围内,由母游标均匀分隔开,沿穿过母游标的水平线均匀分布。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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