[发明专利]磁记录盘

摘要

本发明为一种薄膜钴合金磁记录盘，有一金属氮化物层位于盘基片和盘上表面之间提供在磁头—盘介面处的盘纹理结构。纹理结构层是由一般邻接的铝氮化物（AIN）团粒构成。AIN纹理结构是在有N＃-[2]气存在的情况下溅镀Al耙形成的。其后溅镀沉积的Cr下层、钴合金磁层及保护性无定形碳外套再现邻接AlN团粒上表面外形，在磁头—盘的介面造成一个纹理结构表面。AlN纹理结构层也可以溅镀在磁层上方的保护碳外层中间。

主权项

1.一种磁记录盘，这种磁记录盘具有：一个由玻璃、硅、碳化硅或玻璃状碳制成的、具有平坦的表面的刚性盘基；一个沉积在上述盘基上的金属氮化物层；一个形成在上述金属氮化物层之上的下层；一个包含钴和一种或多种其他元素的合金的、形成在上述下层之上的磁层；以及一个形成在上述磁层之上的保护外套；其特征在于：上述金属氮化物层被设成一个直接位于上述盘基上的一个薄膜，该薄膜与所述盘基接触并且覆盖住上述盘基的全部，使上述下层的任何部分都不与上述盘基的表面相接触；上述金属氮化物层沉积在上述盘基上之后具有带有许多呈圆形的凸起的表面结构；所述的圆形凸起提供了一种与上述盘基的平坦表面相比而言呈纹理状的表面。