[发明专利]一种印字照片的拍摄方法无效
| 申请号： | 95106264.6 | 申请日： | 1995-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1137642A | 公开（公告）日： | 1996-12-11 |
| 发明（设计）人： | 孙钰顺 | 申请（专利权）人： | 孙钰顺 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03B17/24 |
| 代理公司： | 北京科龙环宇专利事务所 | 代理人： | 王国权 |
| 地址： | 061000 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种印字照片的拍摄方法，该印字也可是图案、商标、信物等其它标记，使照片更醒目、明快、耐人寻味、别有情趣。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 照片 拍摄 方法 | ||
【主权项】：
1、一种印字照片的拍摄方法，其特征在于该方法依次按下述过程制作：(1)制作字样，拍摄成相，制作带字的负片底片；(2)用负片底片制作成透明的带字的正片；(3)在暗室内，将上述透明带字正片置于待拍摄的胶片(卷)的前面，装于相机内；(4)拍摄成相，去带字正片，将带字的底片显，定影，冲洗待到带字底片，再制作成本发明带字照片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于孙钰顺，未经孙钰顺许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/95106264.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
