[发明专利]含有滤紫外光体系的防光照化妆组合物及其应用无效
| 申请号： | 95106820.2 | 申请日： | 1995-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN1071568C | 公开（公告）日： | 2001-09-26 |
| 发明（设计）人： | Ｊ·－Ｍ·阿西昂尼;Ｄ·阿拉德;Ｉ·汉森尼 | 申请（专利权）人： | 莱雅公司 |
| 主分类号： | A61K7/40 | 分类号： | A61K7/40;A61P17/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴大建 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 局部使用，尤其是用于使皮肤和／或毛发防光照的化妆组合物，其中在连续相为水相的化妆用载体或介质中包括能够滤除ＵＶ（ＵＶ－Ａ和／或ＵＶ－Ｂ）光线的防光照保护体系以及至少一种聚合物，其特征在于所说聚合物选自由（i）下式（Ⅰ）单元和（ii）下式（Ⅱ）和／或下式（Ⅲ）单元重复而构成的聚合物，该组合物具有改进的防光照能力，可用于使皮肤扣毛发免遭紫外线照的危害。$＃! | ||
| 搜索关键词： | 含有 紫外光 体系 光照 化妆 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
1．局部使用的化妆组合物，其中在连续相为水相的化妆用载体或介质中包括能够滤除UV，即UV-A和/或UV-B光线的防光照保护体系以及至少一种聚合物，其特征在于所说聚合物选自由(ⅰ)下式(Ⅰ)单元和(ⅱ)下式(Ⅱ)和/或下式(Ⅲ)单元重复而构成的聚合物：其中a为等于O或1的整数，R1,R2,R3和R4相同或不同，可为氢或C1-C4烷基，R5为CH3CO-基团或R6-(OC2H5)b-基团，而R6为C2-C20烷基及b为1-20的整数，包括1和20，条件是当该聚合物缺乏式(Ⅱ)单元时，R2和R4基团不能同时为氢，而且，防光照保护体系的总浓度以组合物总重量计不超过40wt％，而一或多种聚合物的浓度以组合物总重量计为0.05-15wt％。
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