[发明专利]相移掩模

摘要

本发明涉及一种相移掩模，目的是修正位于掩模周围部分的不透光图形，由此补偿掩模周围部分当光通过掩模后光强相对减小引起的光强偏差。本发明保证光刻胶膜的图形临界尺寸的均匀度，这样就保证了半导体元器件的可靠性和生产效率。

主权项

1、一相移掩模，具有这样的结构，将多个不透光图形以规则的间隔形成在掩模基板上，并形成相移材料，该相移材料不仅覆盖一不透光图形和与其最临近的不透光图形之间的间隙，而且覆盖上述两个不透光图形的指定部分，该相移掩模包括：在位于该掩模周围部分的不透光图形之中形成内或外不透光图形，该内或外不透光图形比其它不透光图形厚，使该内或外不透光图形侧边缘上产生不规则反射，以补偿光强差，该周围部分是光通过掩模后光强相对减小的部分。