[发明专利]电子发射器件,电子源基片,成像设备及其生产方法无效

专利信息
申请号: 95113123.0 申请日: 1995-12-15
公开(公告)号: CN1130747C 公开(公告)日: 2003-12-10
发明(设计)人: 坂野嘉加;贵志悦朗;长谷川光利;三道和宏;重冈和也;宫本雅彦 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01J9/02 分类号: H01J9/02;H01J1/30;H01J31/12;G09F9/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 冯赓宣
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种产生电子发射器件的方法,包括如下步骤:形成一对电极,并在一个基片上形成导电薄膜,使这对电极与导电薄膜接触,并使用导电薄膜形成一个电子发射区,其中该方法的特征在于,以微滴形式向基片提供包含一种金属元素的溶液,借此形成导电薄膜。
搜索关键词: 电子 发射 器件 源基片 成像 设备 及其 生产 方法
【主权项】:
1.一种生产电子发射器件的方法,包括如下步骤:形成一对电极,并在一个基片上形成一个导电薄膜,使所述电极对与所述导电薄膜接触,并且使用所述导电薄膜形成一个电子发射区,其中利用喷墨处理以微滴形式向所述基片提供包含一种金属元素的一种液体,由此形成所述导电薄膜,所述喷墨处理包括:提供一个驱动信号;把所述驱动信号的电能转换成作用在所述液体上的另一种形式的能量;以及在对所述驱动信号进行控制的同时,通过一个喷嘴以微滴的形式喷射所述液体,从而把所希望的量的所述液体提供到所述基片上的所希望的位置。
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