[发明专利]中空光波导的制备工艺无效

专利信息
申请号: 95114226.7 申请日: 1995-10-19
公开(公告)号: CN1048232C 公开(公告)日: 2000-01-12
发明(设计)人: 吕刚宁;周建英;李振先 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: C03B37/075 分类号: C03B37/075
代理公司: 中山大学专利事务所 代理人: 吴碧芳,叶贤京
地址: 51027*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明是一种中空介质膜金属光波导的制备工艺,包括芯基的拉制及表面处理、介质膜及金属膜的真空蒸涂、金属外壳的电镀、芯基的腐蚀去除等步骤,制得的中空光波导内层为介质膜,中间层为金属膜,外壳为金属镀层。本制备工艺采用表面光洁度高的玻璃管作为芯基,介质膜对传输的光波具有高折射率从而能增加其反射率,而金属外壳有一定厚度使其具有一定的机械强度,因此,光波导的内壁表面具有高光学质量,光传输损耗低,波导不易损坏,使用寿命长。
搜索关键词: 中空 波导 制备 工艺
【主权项】:
1、一种中空光波导制备工艺,包括芯基的制备、介质膜的真空蒸涂、金属膜的真空蒸涂、外壳金属的电镀和芯基的腐蚀去除,其特征是:(1)采用玻璃管作为芯基材料,经拉制成外径为0.3~1.5mm,长度为100~500mm、表面光洁度为8~10的细玻璃管作为制备中空光波导的芯基;(2)在芯基外壁真空蒸涂介质膜,膜材料为二氧化锆或锗膜厚为1000~5000;(3)在介质膜上真空蒸涂金属膜,膜材料为反光性能好的金属银或金,膜厚1000~2000;(4)在金属膜上电镀金属铜或镍作为中空光波导的外壳,镀层厚度为0.1~0.2mm;(5)芯基的去除,用浓度为20%的氢氟酸腐蚀玻璃芯基10~20分钟。
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