[发明专利]分析流体流动过程的装置和方法无效
| 申请号： | 95115238.6 | 申请日： | 1995-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN1065175C | 公开（公告）日： | 2001-05-02 |
| 发明（设计）人： | 中野亮 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B29C45/76 | 分类号： | B29C45/76;G09B23/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的流体流动过程分析装置和方法包含构成一个被分成若干小的基元的三维模型，以便代表流体流动的腔体，当关注的小基元位置靠近腔壁表面时，确定流导ｋ为一个小值，当该小基元远离该表面时，确定流导ｋ为一个大值，根据已确定的流导计算在各个小基元处的压力、压力转变或流速。在本发明的注模产品制造方法中，将被分成若干小的基元的代表流体流动的腔体的三维模型用来在惯用的计算时间内分析例如注模过程之类的流体流动过程。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 流体 流动 过程 装置 方法 | ||
【主权项】：
1．一种用于分析流体流动过程的装置，包括：三维模型构成装置，用于构成一个被分成若干小的基元的三维模型，以便至少代表流体流动的腔体的一部分；流导确定装置，用于当关注的小基元位置靠近腔壁表面时确定流体的流导k为一个小值，以及当该小基元远离该表面时，确定流体的流导k为一个大值；以及压力计算装置，用于根据所述流导k求出：(a)在所述各个小的基元处的流体压力；或(b)在所述各个小基元处的流体的压力转变；或(c)在所述各个小基元处的流体的流速。
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