[发明专利]X射线(或γ射线)无损检查系统无效
申请号: | 95115681.0 | 申请日: | 1995-10-18 |
公开(公告)号: | CN1132856A | 公开(公告)日: | 1996-10-09 |
发明(设计)人: | 唐志宏;钱耀进 | 申请(专利权)人: | 唐志宏;钱耀进 |
主分类号: | G01N23/18 | 分类号: | G01N23/18 |
代理公司: | 青岛化工学院专利事务所 | 代理人: | 吴澄 |
地址: | 台湾省台北市信*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明是一种利用X射线(或γ射线)进行无损检查的系统,为克服已有X射线(或γ射线)无损检查系统不能对被检查的物件进行实时地影像分离的缺点,本发明包括X射线(或γ射线)产生装置、矩阵存贮装置、整形装置、第一和第二探测装置、第一和第二转换装置、对数处理装置、影像产生装置和影像处理装置。它主要用于对旅客行李检查、邮政检查、海关检查、工业无损检查和废品回收中,能够实时地对各种材料进行影像分离。 | ||
搜索关键词: | 射线 无损 检查 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用X射线(或γ射线)穿过由未探明的材料组成的整体,产生具体材料的影像,对这些具体材料的影像进行分离的X射线(或γ射线)检查系统,其特征在于,包括:(1)X射线(或γ射线)产生装置,它用于产生N种不同能量分布的X射线(或γ射线),每种能量分布表示为Ek,并且每种能量分布Ek的X射线(或γ射线)具有强度I0(Ek),K的范围从1到N,N是大于1的整数;(2)矩阵存贮装置,它用于存贮N×N矩阵μ-1,μ-1是矩阵μ的逆矩阵,检查前,根据材料对不同能量的入射X射线(或γ射线)的线性衰减系数或者与线性衰减系数等价的特征量(equivalentcharacteristics)的接近程度,把由未探明的材料组成的整体分成N种可能的材料组,矩阵μ的每一个元素μjk被定义为(N种材料组中的)某一材料组j对能量分布Ek的X射线(或γ射线)的线性衰减系数;(3)透射强度探测装置,它用于探测N种能量分布Ek的X射线(或γ射线)穿过由未探明的材料组成的整体以后的透射强度I(Ek,x,y),透射强度探测装置输出第二影像信息;(4)对数处理装置,它用于对第二影像信息进行对数处理;(5)影像产生装置,它利用经过对数处理的第二影像信息及μ-1阵,产生N种材料组的具体材料影像;(6)影像处理装置,它用于处理并输出具体材料影像。
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