[发明专利]对工件进行光学处理的准分子激光束辐照装置

摘要

一种即使在经受多次反射的准分子激光束的强度分度为不均匀时也能对工件进行光学处理的准分子激光束辐照装置。一图形掩模具有透光部分和反射层。与反射层相对，设置一个高反射率反射镜。该辐照装置还包括一个成像透镜、一个工件移动机构、一个掩模移动机构和一个控制单元。采用该装置可以按照图形掩模的图形，准确可靠地对工件进行均匀稳定的加工处理。

主权项

1.一种用准分子激光束对工件进行处理的准分子激光束辐照装置，其特征在于，它包含：一准分子激光振荡器，用来辐射一准分子激光束；一具有透光部分和反射层的图形掩模，所述透光部分用来使所述准分子激光振荡器辐射的所述准分子激光束能够从中通过，所述反射层用来反射所述准分子激光束，所述透光部分形成一在所述工件上待形成的图形；处于所述图形掩模的所述反射层相对位置上的反射装置，用来将从所述反射层反射的准分子激光束反射到所述图形掩模上，从而所述准分子激光束在反射装置和所述图形掩模之间经受多次反射，并发生位移；一成像光学系统，用来将透过所述图形掩模的准分子激光束图形成像到它所辐照的所述工件上；一工件移动机构，用来沿与所述成像光学系统的光轴正交的方向移动所述工件；一掩模移动机构，用来沿与所述成像光学系统的光轴正交的方向移动所述图形掩模；以及一控制装置，用来控制所述准分子激光振荡器；所述工件移动机构和所述掩模移动机构；其中，所述控制装置控制所述工件移动机构和所述掩模移动机构，从而所述图形掩模和所述工件沿同一轴相互同步位移，用所述准分子激光束在一同步扫描位移期间沿一扫描移动方向扫描所述工件，所述扫描移动方向与所述准分子激光束在所述图形掩模和所述反射装置之间经受多次反射时发生平移的方向重合。