[发明专利]光刻方法和用于实现此方法的光刻系统无效
| 申请号： | 95118599.3 | 申请日： | 1995-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN1075894C | 公开（公告）日： | 2001-12-05 |
| 发明（设计）人： | 金政会;吉明君;权元泽;金光哲 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 杨梧 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于在生产集成电路中使一块晶片成象的系统和方法。在一聚光透镜与一投影透镜之间使用多个原版。各个原版上的掩模图形的透明区尺寸彼此分别不同，以防止由于在光线穿过各个原版和投影透镜时光径改变而降低分辨率。嵌置各个原版于步进装置之中，使之沿着光径以重叠的方式彼此分隔放置。在穿过光径中前一原版时所产生的光线散射部分为下一原版滤除，从而带有高分辨率和精细度的图形影象投影到晶片上面。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 用于 实现 系统 | ||
【主权项】：
1、一种光刻方法，用于在生产集成电路中在一块晶片上成象，所述方法包括以下各步骤：(a)配置多个原版，各自包括集成电路掩模图形，每一原版具有一透明衬底和在该透明衬底上的一不透区，每个原版具有相同的掩模图形形状和相同的掩模图形尺寸，或者每个原版具有相同的掩模图形形状而在所述原版上的掩模图形不透区沿着一条光径在尺寸上顺序减小；(b)配置一投影步进装置，适于容放所述各个原版，还适于投影光线通过所述各个原版；(c)嵌置所述各个原版于所述步进装置之中，使之沿着所述光径以重叠的方式彼此分隔放置；(d)投射光线通过所述各个原版，把各个原版上的所述掩模图形投影在所述晶片上以生成图象，其中在穿过光径中前一原版时所产生的光线散射部分为下一原版滤除，从而带有高分辨率和精细度的图形影象投影到晶片上面。
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