[发明专利]等离子处理方法及其处理装置无效
| 申请号： | 95121151.X | 申请日： | 1995-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1165635C | 公开（公告）日： | 2004-09-08 |
| 发明（设计）人： | 酒见俊之;田中胜 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 叶恺东;王忠忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在包括真空容器和设置在该真空容器内的等离子束发生器以及配置在真空容器内的主蒸发台，并使从等离子发生器发生的等离子束入射至主蒸发台上的等离子处理装置中，在主蒸发台附近相对主蒸发台的中心轴线同轴地配置永久磁铁和蒸发台线圈。通过使供给该蒸发台线圈的电流变化调整物质熔化的能力并且调整蒸镀物质蒸发粒子的飞行分布。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子处理方法，在包括用于产生等离子束的束发生源，配置在真空容器内并具有上述等离子束的入射面的蒸发台的装置中，将上述束发生源产生的等离子束引导到上述蒸发台的入射面上，进行等离子处理，其特征在于：利用相对上述蒸发台的中心轴线同轴配置的环形永磁铁在上述蒸发台附近形成恒定磁场，利用相对上述蒸发台中心轴线同轴配置的电磁线圈形成调整磁场，把调整磁场叠加在上述恒定磁场上，从而使上述蒸发台附近的磁场发生变化。
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