[发明专利]光掩模坯料

摘要

本发明公开了可透过预埋移相器-光掩模坯料，它包括一种光学非均匀性衰减薄膜，该薄膜在平印波长下至少具有0.001的透射，而且实质上是由多种成分的组合构成的，其中一种成分比另一种成分在平印波长下具有更高的吸收率。距离薄膜表面的一种深度，比另一种深度具有较高吸收成分的较高含量，并且贯穿此薄膜厚度的折射率和/或消光系数变化曲线是渐变的。上述变化曲线和薄膜厚度可进行选择，以在选定的平印波长下提供约180°或其奇数倍的相位移。

主权项

1.一种对于选定的平印波长可透过的预埋移相器-光掩模坯料，包括带有上表面和下表面的非均匀性衰减薄膜，该薄膜在平印波长下至少具有0.001的透射度，而且实质上是由至少两种成分的组合构成的，其中至少一种成分比至少一种其它成分在平印波长下具有更高的吸收率；其中距离薄膜上表面的一种深度，比距离此上表面的另一种深度具有更高的上述较高吸收成分的含量，并且贯穿此薄膜厚度的无论在衰减薄膜中的什么位置的折射率变化曲线、消光系数变化曲线或者上述两种变化曲线都是渐变的；而且其中所述的变化曲线和薄膜的厚度可进行选择，以在选定的平印波长下提供约180°或其奇数倍的相位移。