[发明专利]可干法显影的正性抗蚀剂无效
| 申请号： | 95193140.7 | 申请日： | 1995-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN1149341A | 公开（公告）日： | 1997-05-07 |
| 发明（设计）人： | 里塞·塞兹;雷纳·勒施纳;霍斯特·博恩多弗尔;伊娃-玛丽亚·里瑟尔;迈克尔·西博尔德;赫尔穆特·阿奈;西格弗雷德·伯克利;埃伯哈德·库恩 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 巫肖南 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种可干性显影、正性操作的TSI抗蚀剂含有以下组分一种合适的溶剂；一种作为光活性组分的强酸组分；和一种共聚物或三聚物形式的基础聚合物，以马来酸酐为一种基本单元，以甲基丙烯酸缩水甘油酯和/或一种苯乙烯衍生物为另一基本单元；以及必要时一种添加物。 | ||
| 搜索关键词： | 可干法 显影 正性抗蚀剂 | ||
【主权项】：
1、可干法显影的、正性操作的TSI抗蚀剂，其特征在于，含有下列组分：-一种合适的溶剂，-作为光活性组分的一种强酸组分，-一种共聚物或三聚物形式的基础聚合物，其中马来酸酐作为一种基本单元，以甲基丙烯酸缩水甘油酯和/或如下结构的苯乙烯衍生物作为另一基本单元；式中R1＝H或CH3，R2＝H或R3，R3＝(CH2)m-OX，其中X为(CH2)a-CH3、(CH2)b-OCH3、CO-(CH2)c-CH3或CO-(CH2)d-O-(CH2)e-CH3，m、a、b、c、d和e各自独立地为0至5的整数，以及-必要时，当m＝0时强制性地，一种结构如下的添加物：式中R4＝CO-(CH2)n-CH3或CO-C6H5， 其中n为0至5的整数。
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