[发明专利]直链结晶聚脲二酮有效
申请号: | 95193185.7 | 申请日: | 1995-04-21 |
公开(公告)号: | CN1075524C | 公开(公告)日: | 2001-11-28 |
发明(设计)人: | 杉本权司;铃木绅次;伊吹一郎 | 申请(专利权)人: | 旭化成株式会社 |
主分类号: | C08G18/06 | 分类号: | C08G18/06;C09D175/00;C09D5/03 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了式(Ⅰ)直链结晶的聚脲二酮$其中Y表示$X表示$R#-[1]为R#-[2]或$R#-[2]为非二醇残基;R#-[3]为从含一个活性氢化合物中除去活性烃得到的残基;R#-[4]为从二异氰酸酯中除去两个NCO基团得到的残基;n为1或更大。式(Ⅰ)中,0—15%的Y被下式三嗪环替代$聚脲二酮的潜伏NCO基团含量为12—21%(重量),重均分子量为2000—20000,熔点为60℃-140℃,且在40℃或更低温度下不结块。$本发明的直链结晶聚脲二酮可用作粉末涂料的固化剂,不会因烘干涂层过程中保护剂造成很差的气味。由含有本发明直链结晶聚脲二酮的粉末涂料得到的搪瓷膜在表面流平性、耐候性和机械性方面是优良的。$#! | ||
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【主权项】:
1.式(Ⅰ)的直链结晶的聚脲二酮:其中Y表示X表示或-NCO;R1为R2或R2为二醇化合物脱除OH基得到的残基;R3为从含一个活性氢化合物中除去活性烃得到的残基;R4为从二异氰酸酯中除去两个NCO基团得到的残基;n为1或更大,式(Ⅰ)中,0-15%的Y被下式三嗪环替代:聚脲二酮的潜伏NCO基团含量为12-21%(重量),重均分子量为2000-20000,熔点为60℃-140℃,且在40℃或更低温度下不结块。
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