[发明专利]作为除草剂的新的吡咯烷-2-硫酮衍生物无效

专利信息
申请号: 95193385.X 申请日: 1995-05-26
公开(公告)号: CN1149868A 公开(公告)日: 1997-05-14
发明(设计)人: N·J·巴尼斯;R·A·巴伯 申请(专利权)人: 曾尼卡有限公司
主分类号: C07D207/24 分类号: C07D207/24;A01N43/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 谭明胜
地址: 英国英*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 式(I)化合物,R1和R2各自独立地是氢、任选取代的低级烃基或任选取代的杂芳基,或者R1和R2与它们相连的氮原子一起形成一个杂环;R3、R4、R5和R6各自独立地是氢或C1-4烷基;Z代表卤素、任选取代的低级烃基、任选取代的低级烃氧基、任选取代的低级烃硫基、烃基亚磺酰基、烃基磺酰基、氰基、硝基、CHO、NHOH、ONR7′R7″、SF5、CO-任选取代的低级烃基、酰氨基、COOR7、SO2NR8R9、CONR10R11、OR12或NR13R14,其中R7、R7′、R7″、R8、R9、R10和R11独立地是氢或低级烃基;R12是氢、SO2-低级烃基或COR15;R13和R14独立地是低级烃基、低级烃氧基或基团R12;R15是OR16、NR17R18、氢或低级烃基;R16是低级烃基,R17和R18独立地是氢或低级烃基,前提是当有两个或多个取代基Z时,它们可相同或不同;和m是0或整数1-5。
搜索关键词: 作为 除草剂 吡咯烷 衍生物
【主权项】:
1.式(I)化合物:其中R1和R2各自独立地是氢、任选取代的低级烃基或任选取代的杂芳基,或者R1和R2与它们相连的氮原子一起形成一个杂环;R3、R4、R5和R6各自独立地是氢或C1-4烷基;Z代表卤素、任选取代的低级烃基、任选取代的低级烃氧基、任选取代的低级烃硫基、烃基亚磺酰基、烃基磺酰基、氰基、硝基、CHO、NHOH、ONR7′R7″、SF5、CO-任选取代的低级烃基、酰氨基、COOR7、SO2NR8R9、CONR10R11、OR12或NR13R14,其中R7、R7′、R7″、R8、R9、R10和R11独立地是氢或低级烃基;R12是氢、SO2-低级烃基或COR15;R13和R14独立地是低级烃基、低级烃氧基或基团R12;R15是OR16、NR17R18、氢或低级烃基;R16是低级烃基,R17和R18独立地是氢或低级烃基,前提是当有两个或多个取代基Z时,它们可相同或不同;和m是0或整数1-5。
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