[发明专利]新的喹诺酮-或萘酮-羧酸衍生物或其盐无效
申请号: | 95195310.9 | 申请日: | 1995-08-04 |
公开(公告)号: | CN1070191C | 公开(公告)日: | 2001-08-29 |
发明(设计)人: | 藤堂洋三;林一也;高畑正裕;渡边泰雄;成田弘和 | 申请(专利权)人: | 富山化学工业株式会社 |
主分类号: | C07D401/04 | 分类号: | C07D401/04;C07D471/04;C07F7/22;A61K31/47;A61K31/435 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 全菁 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及可用作抗菌剂的新的喹诺酮—或萘酮—羧酸衍生物或其盐,该衍生物在7-位具有下式所示取代基$其中优选R#+[3]代表至少一个选自下列基团的基团氢原子,卤素,取代或未取代低级烷基,低级烷氧基或低级烷硫基,硝基,氰基,保护或未保护羟基及保护或未保护氨基;R#+[4]代表氢原子,取代或未取代低级烷基,低级亚烷基和与R#+[4]结合的碳原子共同形成环烷的基团;R#+[5]代表氢原子或取代或未取代低级基或环烷基。$#! | ||
搜索关键词: | 喹诺酮 羧酸 衍生物 | ||
【主权项】:
1.下式所代表的喹诺酮-或萘酮-羧酸衍生物或其盐:其中R1代表氢原子或羧基保护基;R2代表取代或未取代的烷基、链烯基、环烷基、芳基或杂环基;R3代表至少一个选自下列基团的基团:氢原子,卤原子,取代或未取代的烷基、链烯基、环烷基、芳基、烷氧基或烷硫基,硝基,氰基,酰基,保护或未被保护的羟基,保护或未被保护的羟烷基,保护或未被保护的氨基,保护或未被保护的烷氨基,二烷基氨基,保护或未被保护的氨烷基,保护或未被保护的烷氨基烷基和二烷基氨基烷基;R4代表至少一个选自下列基团的基团:氢原子、卤原子,取代或未取代的烷基、链烯基、环烷基、芳烷基、芳基、烷氧基或烷硫基,保护或未保护的羟基,保护或未保护的羟烷基,保护或未保护的氨基,保护或未保护的烷氨基,二烷基氨基,保护或未保护的氨烷基,保护或未保护的烷氨基烷基,二烷基氨烷基,亚烷基,氧基,亚氨基和与R4键合的碳原子共同形成环烷的基团;R5代表氢原子,取代或未取代的烷基、环烷基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基或芳基,保护或未保护的氨烷基,保护或未保护的烷氨基烷基,二烷氨基烷基,或保护或未保护的羟烷基;R6代表氢原子,卤原子,取代或未取代的烷基、烷氧基或烷硫基,保护或未保护的羟基,保护或未保护的氨基或硝基,代表或其中Y代表氢原子,卤原子,取代或未取代烷基、烷氧基或烷硫基,或保护或未保护的羟基,或与R2一起形成下式所示的基团:其中R7代表至少一种选自下列基团的基团:氢原子,烷基,卤代烷基,保护或未保护的羟烷基,亚烷基和与R7所结合的碳原子一起共同形成环烷环的基团,且B代表氧原子、硫原子或可被烷基取代的亚氨基;X代表氢原子或卤原子;上述R2中被取代的烷基、链烯基、环烷基、芳基或杂环基中的取代基,上述R3中被取代的烷基、链烯基、环烷基、芳基、烷氧基或烷硫基中的取代基,上述R4中被取代的烷基、链烯基、环烷基、芳烷基、芳基、烷氧基或烷硫基中的取代基,上述R5中被取代的烷基、环烷基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基或芳基中的取代基,上述R6中被取代的烷基、烷氧基或烷硫基中的取代基,上述Y中被取代的烷基、烷氧基或烷硫基中的取代基,是选自下列基团中的一个或一个以上:卤素原子、氰基、保护或未保护的羧基、保护或未保护的羟基、保护或未保护的氨基、烷基、烷氧基、烷氧羰基、芳基、环烷基、链烯基、卤代烷基、保护或未保护的烷基氨基和二烷基氨基。
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