[发明专利]光学安全制品及其制备方法无效
| 申请号： | 95196041.5 | 申请日： | 1995-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN1058665C | 公开（公告）日： | 2000-11-22 |
| 发明（设计）人： | S·L·吕 | 申请（专利权）人： | 美国3M公司 |
| 主分类号： | B42D15/10 | 分类号： | B42D15/10;B42D15/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露了一种光学安全制品（１）及其制造方法，它包括对可见光基本透明并具有第一折射率的第一层（１４），第一层具有带凹凸的图形的第一表面（１８）和基本光滑的第二表面（１６），一层粘合剂层（２４）与第一层共边界。该粘合剂层基本完全填满许多几何凹谷的第一部分并与之接触，粘合剂层具有与第一层的第一折射率基本相似的第二折射率。许多几何凹谷的第二部分通过相应的多个隔离层（３４）不与粘合剂层相接触。每个隔离层具有与第一层折射率不同的隔离层折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 安全 制品 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学安全制品，它包括：a)对可见光基本透明并具有第一折射率的第一层，该第一层具有包含许多邻接几何凹谷和凸峰的结构第一表面和基本平坦的第二表面；b)与第一层共边界的粘合剂层，该粘合剂层基本完全填满第一几何凹谷并与之粘性接触，该粘合剂层具有与第一折射率基本相同的第二折射率，从而形成至少一个透明区域；其特征在于所述制品还包括：c)置于粘合剂层和第二几何凹谷之间防止粘合剂与几何凹谷接触的隔离层，并且在隔离层和凹谷之间形成许多穴。
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