[实用新型]镀膜系统用的激光自动消颗粒装置无效
申请号: | 95207420.6 | 申请日: | 1995-04-08 |
公开(公告)号: | CN2245620Y | 公开(公告)日: | 1997-01-22 |
发明(设计)人: | 周岳亮;崔大复;吕惠宾;陈正豪;许世发;刘彦巍;何萌;杨国桢;熊旭明;王会生;李春苓 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C23C14/28 | 分类号: | C23C14/28 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 1000*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型属激光制膜技术领域。是一种采用激光法制膜过程中用于消除薄膜表面和内部颗粒,并在制膜后用于膜层再构的装置。本实用新型提供一种由激光器,真空室,可控聚焦透镜,可控靶-反射镜联动部件,加热器等组成的镀膜系统用的激光自动消颗粒装置。本实用新型克服了薄膜表面和内部存在颗粒的缺点,提高了膜的质量,而且成膜速率高。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 系统 激光 自动 颗粒 装置 | ||
【主权项】:
1.一种由激光器,真空室,加热器,靶组成的镀膜系统用的激光自动消颗粒装置,其特征在于:包括在真空室(7)外,有一可控聚焦透镜(3),它放置在可在导轨(13)内滑动的滑块(14)上,滑块(14)与丝杠(12)相联,丝杠(12)与电脑控制的步进电机(11)联结,聚焦透镜前放一个扫描反射镜(2),在真空室(7))内与基3片加热器(9)的相对位置上安置一个转盘(10),它的轴通过磁耦合与真空室外的另一部电脑控制的步进电机(20)相联结。在转盘(10)上固定一个靶(5)和反射镜(4),在真空室内垂直于反射镜(4)的方向上放置基片加热器(9)。
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