[实用新型]用于稳流磁控靶与射频靶共溅射的电磁兼容装置无效
| 申请号： | 95227894.4 | 申请日： | 1995-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN2267258Y | 公开（公告）日： | 1997-11-12 |
| 发明（设计）人： | 阎志忠;尹林;袁懋森;赖武彦;阎明朗 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100080 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种溅射设备中的部件，特别是一种溅射设备中提供磁控直流的电磁装置。本实用新型的目的在于直流靶与射频靶共溅射时，直流靶能够在快速高精度的小溅射束流下工作，提供一种由射频靶用绝缘带材绕一层绝缘区，外套金属屏蔽室，射频靶冷却水管外套屏蔽网，并用喉箍固定组成的电磁兼容装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 稳流磁控靶 射频 溅射 电磁 兼容 装置 | ||
【主权项】：
1.一种由射频靶，冷却水管，电磁靶组成用于稳流磁控靶与射频靶共溅射的电磁兼容装置，其特征在于：在射频靶电极上用绝缘带材绕成绝缘层，外套金属箔射频靶屏蔽室，并用铜带接地，在射频靶冷却水管外套一屏蔽网，并固定在冷却水管两端，一端用铜带接地。
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