[发明专利]用巴基管作基底涂层的金刚石薄膜制造方法无效
申请号: | 96102608.1 | 申请日: | 1996-02-09 |
公开(公告)号: | CN1136088A | 公开(公告)日: | 1996-11-20 |
发明(设计)人: | 高志栋;梁吉;魏秉庆;曾效舒;吴德海;王克忠;李玉宝 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/46;C23C16/02 |
代理公司: | 清华大学专利事务所 | 代理人: | 章瑞溥 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种金刚石薄膜的制造方法,属非金属元素的制备领域。本方法是在基底上涂刷混合于苯、酚、醇等有机溶剂中的巴基管溶液,干燥后将基底放入真空室内,充入碳氢化合物气体(CH4或C2H2)与H2的混合气体,加热混合气体及基底,使碳沉积在基底上,合成金刚石薄膜。用本发明方法制造金刚石薄膜生长速度快、质量高。 | ||
搜索关键词: | 用巴基管作 基底 涂层 金刚石 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种金刚石薄膜制造方法,其特征是在基底上涂刷混合于苯、酚、醇等有机溶剂中的巴基管溶液,干燥后再将涂有巴基管溶液的基底放入真空室内克入碳氢化合物气体与H2的混合气体,加热混合气体及基底使碳沉积在基底上,合成金刚石薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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