[发明专利]显示装置的制造方法无效
| 申请号： | 96107275.X | 申请日： | 1996-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN1135425C | 公开（公告）日： | 2004-01-21 |
| 发明（设计）人： | 小山润 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 萧掬昌;王忠忠 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在活性基体液晶显示装置中，构成薄膜晶体管的薄膜集成电路中的栅线路是用铝材制成的。形成栅线路中，在栅线路薄膜形成图案以前，在小丘和晶须部位形成缝隙。(如果产生小丘和晶须将造成串音或短路)，并且对缝隙内的栅线路部分进行阳极处理。利用缝隙形成的部位构成导线线路。结果，对于阳极处理时产生的应力，以及由于复杂的线路图案而不能供给阳极处理所需要的足够大的电流等问题给预解决。象素区域中的栅线路的阳极处理步骤分开进行。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造显示装置的方法，包括以下步骤：在一个基片上形成一个包含可进行阳极氧化的材料的导电膜；去除上述导电膜的选定部分以在上述导电膜中形成缝隙；用所述导电膜作为阳极进行阳极氧化以在所述导电膜的上表面上和在所述缝隙中的所述导电膜的侧表面上形成阳极氧化膜；和在所述阳极氧化之后对所述导电膜进行构图以形成布线图形，所述构图使得所述布线图形的侧表面的一部分被在所述阳极氧化中形成的阳极氧化膜所覆盖。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所，未经株式会社半导体能源研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/96107275.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
