[发明专利]用于喷砂保护层的光敏树脂组合物无效

专利信息
申请号: 96108446.4 申请日: 1996-05-01
公开(公告)号: CN1082679C 公开(公告)日: 2002-04-10
发明(设计)人: 竹花宏;山本哲郎;带谷洋之;水泽龟马 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社;东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 巫肖南
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种光敏树脂组合物,该组合物适合于在光刻图案之后作为基体表面图样雕刻的耐喷砂保护层材料,它包括(a)一种在分子末端带有一个(甲基)丙烯酸酯基的氨基甲酸乙酯化合物,该氨基甲酸酯化合物是由在分子链末端带有一羟基的聚醚或聚酯化合物、二异氰酸酯化合物和具有一个羟基的(甲基)丙烯酸酯合物制备的,(b)酸价为50至250mgKOH/g的碱溶性聚合物和(c)一种光聚合引发剂。$#!
搜索关键词: 用于 喷砂 保护层 光敏 树脂 组合
【主权项】:
1、一种适用于作耐喷砂处理的保护材料的光敏树脂组合物,该组合物是一种均匀的混合物,包括:(a)100重量份在分子末端有一个(甲基)丙烯酸酯基的氨基甲酸乙酯化合物,该氨基甲酸乙酯化合物是由在分子链末端带有一羟基的聚醚或聚酯化合物、二异氰酸酯化合物和具有一个羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物而制得的;(b)酸价为50~250mgKOH/g的碱溶性性聚合物,其量是组份(a)与组份(b)的重量比为30∶70至95∶5;以及(c)0.1至20重量份的光聚合引发剂,其中作为组份(a)的氨基甲酸乙酯化合物是由通式CH2=CR2-CO-O-R1-(NH-CO-O-R3-O-CO-NH-R4-NH-CO-O-R3-O-CO-NH)n-R1-O-CO-CR2=CH2所表示,其中,R1是亚烷基或亚烷基醚基;R2代表一个氢原子或一个甲基;R3代表去掉两个异氰酸基的二异氰酸酯化合物的残基;R4是聚醚或聚酯化合物的残基;角标n是不超过5的正整数;其中用于形成组份(a)的在分子链末端有一羟基的聚酯化合物是通过内酯单体开环聚合得到的聚合物;或用于形成组份(a)的在分子链末端具有一羟基的聚酯化合物是聚碳酸酯二醇;其中作为组份(a)的氨基甲酸乙酯化合物的分子量为1000至30000;以及组分(a)的酸价不超过70mgKOH/g。
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