[发明专利]高密度并联式只读存储器无效

专利信息
申请号: 96109642.X 申请日: 1996-09-03
公开(公告)号: CN1175774A 公开(公告)日: 1998-03-11
发明(设计)人: 吴启勇;陈领;彭詠钿 申请(专利权)人: 合泰半导体股份有限公司
主分类号: G11C17/00 分类号: G11C17/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 徐娴
地址: 中国*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种高密度并联式只读存储器,其主要保持感测路径上的埋层N+电阻值不变,另为使选择线下驱动的无用选择门或转换门得以隔离,主要以离子植入方式形成隔离用的埋层P+,并使离子的扩散不会造成选择线下驱动的有用转换门或选择门的宽度变小或切断,以达到密度高及速度快的目的。其包括字元线、位元线、金属导线、选择线、埋层延伸区及离子植入区;位元线与字元线垂直交叉成只读存储器单元矩阵,选择线设于只读存储器单元矩阵基体的上、下方。
搜索关键词: 高密度 并联 只读存储器
【主权项】:
1、一种高密度并联式只读存储器,其包括有:(1)字元线,其为至少一个呈横向相互平行的多晶硅构成;(2)位元线,其为至少一个呈纵向相互平行的埋层N+构成,并与字元线垂直交叉而成只读存储器单元矩阵;(3)金属导线,设置于每相隔一条埋层N+的上层平面并连结金属接触区;(4)选择线,由多晶硅所构成,并设置于只读存储器单元矩阵基体的上、下方,可作为该只读存储器区块的选择;(5)埋层延伸区,设于该金属接触区的下方,并延伸至该选择线上;(6)离子植入区,将该选择线上不必要的选择门或转换门以埋层P+的离子植入方式达到绝缘状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合泰半导体股份有限公司,未经合泰半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/96109642.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top