[发明专利]有通孔的印刷电路板的通孔内壁形成电镀层的方法无效

专利信息
申请号: 96111646.3 申请日: 1996-08-05
公开(公告)号: CN1090890C 公开(公告)日: 2002-09-11
发明(设计)人: 坂本佳宏;谷村稔生;王谷稔 申请(专利权)人: 美克株式会社
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42;C25D5/02
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 刘立平
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在露出铜及绝缘材料的材料上,使石墨、炭黑或钯化合物附着其上后,用微蚀刻除去铜表面上的石墨等,随后进行电镀的方法,该方法使用由含有硫酸5-60%(重量%,以下相同),过氧化氢3-35%,及含有膦基的胺或其盐0.01-10%的水溶液所组成的微蚀刻剂,可使用由含有硫酸5-60%,过氧化氢3-35%,含有膦基的胺或其盐0.01-10%,及上述含有膦基的胺之外的胺0.1-10%的水溶液所组成的微蚀刻剂。由本发明的方法,可在印刷电路板的直通孔的内壁上进行可靠性高的电镀。
搜索关键词: 有通孔 印刷 电路板 内壁 形成 镀层 方法
【主权项】:
1.一种具有通孔的印刷电路板的通孔内壁形成镀层的电镀方法,所述印刷电路板系由层叠铜或铜合金及绝缘材料而成,其特征在于,(a)使含有平均粒径为最大2μm的石墨粒子及平均粒径为最大1μm的炭黑粒子中至少一种的水分散液与上述电路板接触,使该粒子附着其上后,(b)使用由含有硫酸5-60重量%、过氧化氢3-35重量%,及含有膦基胺或其盐0.01-10%的水溶液所组成的微蚀刻剂将铜或铜合金蚀刻,由此除去该铜或铜合金表面上的上述粒子,(c)其次,将由除去了上述粒子的铜或铜合金及留存于绝缘材料表面上的上述粒子所组成的层作为导电层,进行电镀。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美克株式会社,未经美克株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/96111646.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top