[发明专利]改进的染料吸液法印相坯料以及浮雕片无效
| 申请号： | 96111743.5 | 申请日： | 1996-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN1172968A | 公开（公告）日： | 1998-02-11 |
| 发明（设计）人： | W·A·包曼;C·P·哈格迈耶;F·D·曼尼奥西;M·J·波达诺维茨;R·W·纳尔逊 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C8/00 | 分类号： | G03C8/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了染料吸液法印相坯料,该坯料包括支撑物和基本上无阳离子聚合物的抗静电层。本发明还公开了曝光染料吸液法印相浮雕片的方法,该方法包括将浮雕片成影像地曝露在兰、绿或红光中,并且成像的浮雕片的尖头对比度可如下控制(Ⅰ)把UV吸收剂掺入浮雕片的胶体层,和(Ⅱ)在基本无波长大于410nm光的条件下,用UV光闪光曝光浮雕片。 | ||
| 搜索关键词： | 改进 染料 吸液法印相 坯料 以及 浮雕 | ||
【主权项】：
1.一种染料吸液法印相坯料，该印相坯料包括支撑物，该支撑物靠它的一面支撑包括阳离子媒染剂的接收染料层，其中印相坯料进一步包括基本上无阳离子聚合物的抗静电层。
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