[发明专利]气体处理方法和设备无效
| 申请号： | 96111841.5 | 申请日： | 1996-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN1149085A | 公开（公告）日： | 1997-05-07 |
| 发明（设计）人： | L·G·温特顿;T·J·格兰特 | 申请（专利权）人： | 希巴-盖吉股份公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;G02B1/10;G02C7/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于均匀且有效地在气态气氛中处理制品的固定装置和方法。固定装置提供一组用于在处理过程中支撑制品的点接触支撑位置。该固定装置和处理方法特别适用于接触镜的等离子气体处理以改进表面生物适应性和亲水性。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 处理 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种固定装置，用于均匀且有效地支撑要在气态处理气氛中处理的制品，包括一个支撑结构，它为要被处理的制品提供一组点接触支撑位置，其中所述点接触支撑位置组足以支撑所述要被处理的制品但并不妨碍所述制品和所述气态气氛之间的接触，能够用所述气态气氛基本上均匀地处理所述制品。
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