[发明专利]腔废气监测系统、半导体加工系统,以及使用方法无效
申请号: | 96112702.3 | 申请日: | 1996-10-09 |
公开(公告)号: | CN1155655A | 公开(公告)日: | 1997-07-30 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·迈克安德鲁;王华赤;小本吉明·J·朱茨克 | 申请(专利权)人: | 液体空气乔治洛德方法利用和研究有限公司 |
主分类号: | G01J3/00 | 分类号: | G01J3/00;G01J3/42 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杨晓光 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种新型的腔废气监测系统。该系统包括一个外部接有排气管的腔。排气管包括一个取样区,基本上全部废气均通过取样区。该系统还包括一个用于检测气相各种分子形式的吸收光谱学测量系统。测量系统包括光源,以及一个经一个或几个光传输窗与取样区在光路上相连的主检测器。光源发出的光束经一个或几个光传输窗中的一个射入取样区。光束通过取样区,并经一个或几个光传输窗中的一个射出取样区。 | ||
搜索关键词: | 废气 监测 系统 半导体 加工 以及 使用方法 | ||
【主权项】:
1.一种腔废气监测系统,包括:一个具有外接排气管的腔,该排气管包括一个取样区,基本上所有的腔中废气均通过取样区;一个用于检测气相各种分子形式的吸收光谱学测量系统,它包括一个光源和一个主检测器,该检测器通过一个或几个光传输窗在光路上与取样区相连,光源通过一个或几个光传输窗中的一个向取样区入射光束,光束通过取样区并通过一个或几个光传输窗中的一个射出,主检测器对射出取样区的光束产生响应。
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