[发明专利]基于乙烯基单元的(共)聚合物及其在场致发光设备中的应用无效

专利信息
申请号: 96120401.X 申请日: 1996-10-02
公开(公告)号: CN1151992A 公开(公告)日: 1997-06-18
发明(设计)人: Y·陈;R·韦尔曼;A·艾施纳;R·杜扎丁 申请(专利权)人: 拜尔公司
主分类号: C08F30/08 分类号: C08F30/08;C09K11/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张元忠
地址: 德国莱*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及含有至少一个通式(1)或(2)的重复链单元和任意的通式(3)的重复单元的(共)聚合物,通式中L1和L2代表发光团残基,其中通式(1)和/或(2)结构单元的比例是0.5-100摩尔%和通式(3)结构单元的比例是0-99.5摩尔%和摩尔%总和为100,该(共)聚合物在场致发光设备生产中的应用和场致发光设备。
搜索关键词: 基于 乙烯基 单元 聚合物 及其 在场 发光 设备 中的 应用
【主权项】:
1.含有至少一个通式(1)或(2)的重复链单元和通式(3)的任选重复单元的(共)聚合物,其中R1,R2和R3各自独立地为氢或C1-C6烷基,M代表CN或C1-C30烷氧羰基,C1-C30(二)烷基氨基羰基,C1-C30烷基羰基,每个基团又可取代有羟基或C1-C6烷氧羰基,M还代表苯基,萘基,蒽基,吡啶基或咔唑基,每个基团又可取代有卤素,羟基,甲硅烷基,C1-C30烷基,C6-C18芳基,C1-C30烷氧基C1-C30烷氧羰基,C1-C30酰氧基和C1-C10烷基羰基。L1和L2各自独立地为发光团残基,其中通式(1)和/或(2)结构单元的比例是0.5-100%(摩尔),和通式(3)的结构单元的比例是0-99.5%(摩尔)和摩尔比总和为100%。
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