[发明专利]用于光学投影系统中的薄膜致动反射镜阵列无效
| 申请号： | 96180412.2 | 申请日： | 1996-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN1226320A | 公开（公告）日： | 1999-08-18 |
| 发明（设计）人： | 闵庸基;田容培 | 申请（专利权）人： | 大宇电子株式会社 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;//H04N9/31 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 韩宏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的薄膜致动反射镜(301)的阵列(300)设置有一具有一转换装置(215)的阵列的有源矩阵(210)、一致动机构(200)的阵列和一反射镜(290)的阵列,其中各致动机构(200)从有源矩阵(210)上伸出悬臂,且各转换装置(215)位于在各致动机构(200)伸出悬臂的位置旁边的有源矩阵(210)上。在该阵列中,在该阵列的工作期间,由于各反射镜(290)通过其一凹入部分被连接至致动机构(200),反射镜(290)保持平整,使得光束的反射更加精确和有效,进而提高了阵列的整体光学效率。而且,由于有源矩阵(210)具有位于各致动机构旁边而非直接其下方的转换装置(215)的阵列,可在阵列制造中的所有的高温处理完成后进行各转换装置(215)和致动机构(200)之间的电连接,从而使所受影响减至最小。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 投影 系统 中的 薄膜 反射 阵列 | ||
【主权项】：
1．一种用于光学投影系统的M×N薄膜致动反射镜的阵列，其中M和N为整数，该阵列包括：包括一基底和形成在该基底顶上的一M×N转换装置的阵列的一有源矩阵；一M×N致动机构的阵列，各致动机构设置有一近端和一远端，并包括第一薄膜电极、一薄膜电致位移元件和第二薄膜电极，其中在各致动机构的近端的底部分被附连至该有源矩阵的顶部，且各致动机构及其对应的转换装置位于该基底顶上的不同区域；及一M×N反射镜的阵列，用于反射入射在其上的光束，各反射镜位于各致动机构的上方。
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