[发明专利]多层静电吸盘装置及制造陶瓷静电吸盘装置的方法无效
| 申请号： | 96192475.6 | 申请日： | 1996-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN1123062C | 公开（公告）日： | 2003-10-01 |
| 发明（设计）人： | 安瓦尔·侯塞因 | 申请（专利权）人： | 兰姆研究公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 范本国 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种具有静电吸持电极的陶瓷静电吸盘装置，适用于吸持晶片和平板显示器。该吸盘装置包括上部绝缘层、吸持电极、第2绝缘层、用于将电源分配给一个吸持电极的第1金属化层、第3绝缘层、用于将电源分配给另一吸持电极的第2金属化层、第3绝缘层、内外加热电极、第5绝缘层、用于将电源分配给加热电极的第3金属化层、及至少一个附加绝缘层。这些绝缘层包括多组用于将电极和金属化层相互连接的导电连通线。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 静电 吸盘 装置 制造 陶瓷 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多层静电吸盘装置，包括：电绝缘陶瓷材料的第1绝缘层；电绝缘陶瓷材料的第2绝缘层；位于第1和第2绝缘层之间的静电吸持电极，该吸持电极包括导电材料的第1和第2带形线；电绝缘陶瓷材料的第3绝缘层；及位于第2和第3绝缘层之间的加热电极，所述加热电极包括离散的内、外加热电极，分别供有电源以提供不同的加热作用。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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