[发明专利]半导体加工用超高纯盐酸的现场制备无效
| 申请号： | 96194539.7 | 申请日： | 1996-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1189787A | 公开（公告）日： | 1998-08-05 |
| 发明（设计）人： | J·G·霍夫曼;R·S·克拉克 | 申请（专利权）人： | 斯塔泰克文切斯公司 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04;B01D1/00;B01D3/14;B01D3/02;B01D3/00;C01B7/19;C01B7/07;F26B7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用以下步骤现场制备用于半导体制造的高度纯化的HCl从液体HCl储蓄器(11)中抽出HCl蒸气(12)以及在低pH值的含水涤气器(17)中洗涤经过滤的蒸气(15)。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工用 高纯 盐酸 现场 制备 | ||
【主权项】：
1.一种在半导体设备制造工厂中为半导体制造操作提供含HCl的超高纯试剂的现场辅助体系，该体系包括：一个连接到液体HCl源并由它提供HCl蒸气流的汽化源；所述的HCl蒸气流被连接以通过离子纯化装置，它使含有高浓度盐酸的高纯水循环流与所述的HCl蒸气流接触；以及一个连接的制备装置，它接收来自所述的纯化装置的所述HCl蒸气流，并使所述的HCl蒸气与含水液体合并，制得含有HCl的超纯含水溶液；以及一个管系，它将所述的含水溶液送到半导体设备制造工厂的各使用点。
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