[发明专利]用于光调制的装置和方法无效
| 申请号： | 96196102.3 | 申请日： | 1996-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1192810A | 公开（公告）日： | 1998-09-09 |
| 发明（设计）人： | J·P·科尔曼 | 申请（专利权）人： | 孟山都公司 |
| 主分类号： | G02F1/15 | 分类号： | G02F1/15;G02F1/155 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王勇,张志醒 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明阐述了一种光调制设备和方法。该设备由一个与电解质层相连的透明工作电极(14),以及一个与电解质层相连的反电极(16)。反电极被放在工作电极和透射光通道的侧面。该方法包括从电极层中金属的可逆电结晶来增加光密度和减少光透射。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 调制 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.光调制装置包括：(1)电解质层包括水，当施加电流时能可逆地从水溶液中沉积出来的金属盐溶液，水稠化的多聚树脂，和中性盐；(2)一个与电解质层相接触的透光电极；(3)一个接触电解质层的第二电极，放置在透光电极侧部；同时(4)与所说的第二电极相接触的可阳极氧化材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于孟山都公司，未经孟山都公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/96196102.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：抑制素组合物和提高生产能力的方法
- 下一篇：可模压的膜
