[发明专利]在四－、五－和六－配位体的金属配合物存在下氧化有机基质的方法及含有配合物的氧化催化剂

摘要

通过在含有至少一种多配位含氮配体的金属配合物的催化剂存在下有机基质与选自氢过氧化物和/或过氧化氢的氧化剂接触使所述有机基质选择性氧化的方法,其特征在于所述金属配合物/过氧化物之摩尔比在1和10－10之间,温度低于120℃,所述金属配合物有通式[LxMyXu]zYq,其中M为处于氧化态的锰和铁原子,X为金属之间的桥,Y为抗衡离子,x和y≥1,0≤u≤3,z为金属配合物的电荷,q=z/Y的电荷,和L为下式的配体R1Ar1N－(CH2)r－NAr2R2,其中Ar1和Ar2为线性C1－C6碳链,与氮化杂环相连,R1和R2为氢或C1－C6烷基链,视具体情况而定与氮化杂环相连,2≤r≤4。

主权项

1.通过在由含至少一种含氮多配位体与至少一种过渡金属的至少一种金属配合物形成的催化剂存在下有机基质与选自氢过氧化物和/或过氧化氢的氧化剂接触使所述有机基质选择性氧化的方法，该操作在水和/或有机稀释剂中进行，其特征在于所述金属配合物/过氧化物之摩尔比在1和10-10之间，温度低于120℃，所述金属配合物对应于以下通式(I)：[LxMyXu]zYq(I)其中M为选自处于至少一种可能的氧化态II、III、IV或V的锰和铁的金属，X为选自水、氢氧根离子OH-、氧离子O2-、O22-和O2-、硫离子S2-、过氧离子HOO-、羧酸根离子RCOO-、硫酸根离子、磷酸根离子、碳酸根离子和卤离子的桥连金属的部分，其中R为氢原子或视具体情况而定取代的芳基或烷基，Y为选自卤离子、氯酸根离子、溴酸根离子、硫酸根离子、磷酸根离子、硝酸根离子、高氯酸根离子、磺酸根离子、三氟甲磺酸根离子和六氟磷酸根离子的抗衡离子，x和y代表大于或等于1的整数，u代表0至3的整数，z代表对应于金属配合物上的电荷的整数，q等于z与Y上电荷之比，和最后，L为选自以下式(II)的配位体：其中Ar1和Ar2相同或不同，均由与至少一个包含至少一个氮原子的杂环相连的含1至6个碳原子的线性碳链组成，其视具体情况而定被质子化，R1和R2相同或不同，代表氢原子或视具体情况而定与至少一个包含至少一个氮原子的杂环相连的含1至6个碳原子的线性或支化烷基链，其视具体情况而定被质子化，和r代表2至4的整数。