[发明专利]双环戊二烯基二烯配合物的制备

摘要

含有一个共轭二烯配位基的双环戊二烯基４族过渡金属配合物，其中的二烯以σ－配键或π－配键形式与过渡金属键连，该配合物很容易通过下列组分以任何次序进行反应来制备a）一种分子式为Ｍ′Ｘ＃-[３]或Ｍ″Ｘ＃-[４]的４族金属盐，或它的路易斯碱加合物；b）一种共轭二烯Ｄ′；c）一种还原试剂；和d）一种式ＣpM＃+[*]或（Ｃp－Ｃp）Ｍn＃+[*]的化合物，式中Ｍ′是＋３价氧化态的钛、锆或铪；Ｍ″是＋４价氧化态的钛、锆或铪；Ｘ是卤离子、Ｃ＃-[１－６]烃氧基或二（Ｃ＃-[１－６]烃基）酰氨基；Ｄ′是未配位的二烯，其碳原子数和取代方式与Ｄ相同；Ｍ＃+[*]是１或２族金属阳离子、格氏试剂阳离子或三（Ｃ＃-[１－４]烃基）甲硅烷基；和n在Ｍ＃+[*]是２族金属阳离子时为１，在Ｍ＃+[*]为１族金属阴离子、格氏试剂或三烃基甲硅烷基时则为２；限制性条件是试剂a）和d）在没有试剂c）存在时不能互相接触。$＃!

主权项

1．一种制备含有二个取代的环戊二烯基基团的金属配合物的方法，所述配合物的分子式为：式中：M为+2价氧化态的钛、锆或铪；D是1,3-戊二烯、1,4-二苯基-1,3-丁二烯、1-苯基-1,3-戊二烯、1,4-二苄基-1,3-丁二烯或2,4-己二烯；E是碳、硅或锗；R独立地是氢或选自甲硅烷基、烃基、烃氧基及其组合的基团，或两个R基团一起形成一个环体系，所述R有高达30个碳或硅原子；x是1到8的整数；和R′和R″独立地选自氢、烃基、甲硅烷基、甲锗烷基、氰基或卤原子，所述R′和R″每个有高达20个非氢原子，或相邻R′基团和/或相邻R″基团一起形成二价基团；所述方法包括以任何次序将下列组分接触：a)一种分子式为M′X3或M″X4的4族金属盐，或它的路易斯碱加合物；b)一种共轭二烯D′；c)一种还原试剂；和d)一种式CpM*的化合物，式中M′是+3价氧化态的钛、锆或铪；M″是+4价氧化态的钛、锆或铪；X是卤离子、C1-6烃氧基或二(C1-6烃基)酰氨基；D′是1,3-戊二烯、1,4-二苯基-1,3-丁二烯、1-苯基-1,3-戊二烯、1,4-二苄基-1,3-丁二烯或2,4-己二烯；M*是1或2族金属阳离子、格氏试剂阳离子或三(C1-4烃基)甲硅烷基；和n在M*是2族金属阳离子时为1，在M*为1族金属阴离子、格氏试剂或三烃基甲硅烷基时则为2；限制性条件是试剂a)和d)在没有试剂c)存在时不能互相接触。