[实用新型]圆柱型平面式磁控溅射靶无效
| 申请号： | 96207094.7 | 申请日： | 1996-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN2292095Y | 公开（公告）日： | 1998-09-23 |
| 发明（设计）人： | 刘志诚;孙东明;王世铭 | 申请（专利权）人： | 永胜诚信工贸公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 云南协立专利事务所 | 代理人： | 旃习涵,王敏 |
| 地址： | 674200 *** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于真空磁控溅射镀膜机上的圆柱型平面式磁控溅射靶。它由靶管(1)、四条条形永磁体(2)、固定永磁体的整体式极靴(3)、旋转机构(4)、冷却水进出水通道(5)、靶帽(6)、屏蔽罩(8)和设置在四条永磁体两端的磁场连接装置(7)构成。由于本实用新型的结构采用圆柱型靶管—四条条形永磁体—整体式极靴—磁场连接装置和旋转式结构,冷却水道通畅,使镀膜层厚度均匀(镀制镀膜玻璃时色差ΔE≤4),靶材利用率>70%,靶的溅射沉积速度快,靶功率高,镀膜效率也高,成膜附着力强。 | ||
| 搜索关键词： | 圆柱 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
1、一种圆柱型平面式磁控溅射靶，它由靶管(1)、条形永磁体(2)、整体式极靴(3)、旋转机构(4)、冷却水进出水通道(5)、靶帽(6)、磁场连接装置(7)和屏蔽罩(8)构成，其特征在于条形永磁体(2)沿靶管(1)排列成四组条形磁场，固定在极靴(3)上对称的槽内，条形磁场两端有磁场连接装置(7)，由于结构上在靶端采用了矩形连续闭合磁路连接装置，保证辉光放电时形成了一个闭合的电子跑道，使溅射得以稳定进行，避免了端部的拉弧(放电)问题。
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