[实用新型]带有环尺的掩模版无效
| 申请号： | 96213029.X | 申请日： | 1996-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN2280935Y | 公开（公告）日： | 1998-05-06 |
| 发明（设计）人： | 崔庆丰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国科学院长春专利事务所 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 130022 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本实用新型属于衍射及二元光学元件制造技术领域,涉及掩模版与待曝光基底中心对准的带有环尺的掩模版。解决已有技术中掩模版中心与待曝光基底中心对准精度低,衍射及二元光学元件的中心偏差难以控制,影响光学系统成象质量的问题。它由光刻掩模版的工作区域,透明和不透明环带,对准观察窗口组成。适用于衍射及二元光学元件制造过程中使用。掩模版中心与基底中心对准精度高,可以保证位于多元件光学系统中的二元光学元件的偏心要求,从而保证光学系统的成象质量。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 模版 | ||
【主权项】：
1、一种带有环尺的掩模版，包含有掩模版1，其特征在于：在掩模版工作区域1的外围制备一组尺寸宽度相待相间隔分布的透明环带2和不透明环带3，在透明环带2和不透明环带组成的区域内制备透明观察窗口4。
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