[实用新型]一种紫外(i线)投影光刻光学透镜系统无效
| 申请号： | 96232948.7 | 申请日： | 1996-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN2288462Y | 公开（公告）日： | 1998-08-19 |
| 发明（设计）人： | 林大键 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/18 |
| 代理公司： | 中国科学院成都专利事务所 | 代理人： | 张一红,姜念云 |
| 地址： | 61020*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种新型的紫外(i线)透影光刻光学透镜系统,可用于实现半微米的光刻分辨力,该系统的特点是整个系统是由三种典型的光学结构(三片型(Triplet)、双高斯型、松纳(Sonnar)变形组合而成,使其具有衍射极限的分辨力,该系统的主要参数(1),缩小倍率M=－1/5;(2),像场尺寸15mm×15mm;(3),数值孔径NA=0.5,(4),使用波段365nm～368nm;(5),全视场内,相对畸变DT≤0.001%。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 投影 光刻 光学 透镜 系统 | ||
【主权项】：
1，一个包括光学元件组成的紫外投影光刻光学透镜系统，其特征在于是基于三个典型的光学结构：三片型、双高斯型和松纳型变形组合而成，分为前组(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)；中组(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(22)；后组(17)、(18)、(19)、(20)、(21)三个透镜组，并在中组的光学元件(11)和(12)之间设置一光栏(22)，
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